微纳加工技术与应用案例

\\\"本书根据编者在微纳加工技术与应用研究生创新课程教学经验的基础上编撰而成。该课程旨在通过对微纳加工技术的课堂讲授并结合上机实操，使学生们能够较全面掌握微纳加工关键工艺；同时，依托本校微纳技术领域的优势团队，学生们能够完成以工艺创新为导向的课程设计。通过线上教学、课堂教学、案例示范教学和实践教学相结合，为学生提供多场景、全方位、理论和实践结合、案例示范相伴的教学新模式。 本书内容覆盖了微纳加工工艺原理与操作、表征与测试方法以及应用创新案例。本书第一篇是微纳加工技术与应用综述；第二篇介绍微纳加工关键工艺；第三篇是微纳技术创新案例，详细介绍了集成电路、光电、机械、材料等学科领域的十一个基于微纳加工技术的前沿课题。 本书可以作为微电子、集成电路、光学工程、物理学等专业本科生以及工科相关专业硕士（博士）研究生的专业选修课教材；本书还可面向从事微纳技术研究或对微纳加工技术感兴趣的科研人员及爱好者参考使用。\\\"

谢会开，北京理工大学集成电路与电子学院教授，国家海外高层次人才，北京理工大学重庆微电子研究院院长、首席科学家，集成声光电微纳系统教育部工程研究中心主任。主要研究方向包括MEMS/NEMS、光学/声学/惯性MEMS传感器、微纳光学、生物光子学、光学显微内窥影像、微型光谱仪和激光雷达，发表论文350余篇，获得授权美国专利22项、授权中国发明专利50余项。担任国际期刊IEEE Sensors Letters和Sensors and Actuators A的副主编。2018年入选IEEE Fellow和SPIE Fellow。

第Ⅰ篇 微纳加工技术与应用综述 第1章 微纳加工技术概述 引言 1.1 微纳加工技术发展历程 1.2 微纳加工技术简介 1.2.1 表面微加工工艺 1.2.2 体硅工艺 1.2.3 纳米压印技术 1.2.4 立体光刻技术 1.2.5 电子束曝光技术 1.2.6 超快激光微纳加工技术 1.2.7 3D集成加工技术 1.3 微纳加工技术应用简介 1.3.1 基于纳米压印的微光学器件制备技术 1.3.2 基于纳米压印的超构表面制备技术 1.3.3 立体光刻技术应用 1.3.4 电子束曝光技术应用 1.3.5 超快激光微纳加工技术应用 1.3.6 3D集成技术应用 1.4 小结 参考文献 第Ⅱ篇 微纳加工关键工艺 第2章 紫外曝光技术 2.1 微纳技术及微纳加工技术简介 2.1.1 紫外曝光技术及其他光学曝光技术简介 2.1.2 微纳加工技术发展趋势及前景 2.2 平面工艺及紫外曝光技术 2.2.1 平面工艺原理 2.2.2 紫外曝光原理 2.3 实验流程及原理 2.3.1 紫外曝光制作微纳米图形流程 2.3.2 掩模版及其设计制造 2.3.3 光致抗蚀剂及其原理 2.3.4 紫外曝光及其原理 2.3.5 前烘与后烘 2.3.6 显影与定影 参考文献 第3章 电子束曝光技术 3.1 概述 3.2 电子束曝光技术 3.2.1 电子束抗蚀剂 3.2.2 电子束曝光系统 3.3 实验仪器 3.4 实验过程 3.5 实验操作 3.5.1 实验目的 3.5.2 实验原理 3.5.3 实验基本要求 3.5.4 实验仪器和材料 3.5.5 实验学时与实验内容