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基于Aspen Plus和Aspen HYSYS的化工流程设计与模拟

基于Aspen Plus和Aspen HYSYS的化工流程设计与模拟

  • 字数: 601000
  • 装帧: 平装
  • 出版社: 国防工业出版社
  • 作者: (斯洛伐)竺马·海德瑞(Juma Haydary) 著 汤健,张婷 译
  • 出版日期: 2025-01-01
  • 版次: 1
  • 开本: 16开
  • isbn: 9787118131970
  • 页数: 484
  • 出版年份: 2025
定价:¥198 销售价:登录后查看价格  ¥{{selectedSku?.salePrice}} 
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精选
内容简介
本书利用Aspen Plus和Aspen HYSYS模拟软件进行化工工艺设计和模拟的方法,介绍了化学工程设计的原理,并阐述了其在最常用的模拟软件中的应用实例。本书共分四篇:设计与模拟的简介、单元操作设计与模拟、工厂设计与模拟的常规组分与非常规组分。通过复杂的材料、聚合物和电解质的工艺过程模拟实例为复杂组分的模拟提供了实际应用的解决方案;通过同时演示Aspen Plus和Aspen HYSYS两种软件的模拟过程和模拟结果,对软件的模拟精度进行了比较。
目录
第1篇设计与模拟概述
第1章计算机辅助流程设计与模拟简介
1.1流程设计
1.2化学流程概念
1.3技术概念
1.4数据收集
1.4.1材料物性数据
1.4.2相平衡数据
1.4.3反应平衡和反应动力学数据
1.5已有工艺模拟
1.6工艺流程图搭建
1.7流程模拟程序
1.7.1序贯模块与联立方程
1.7.2初识Aspen Plus模拟
l.7.3初识Aspen HYSYS模拟
1.8常规与非常规组分
……

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