产业专利分析报告 (第100册)——高端芯片晶圆制造技术

字数: 360000
装帧: 平装
出版社: 知识产权出版社
作者: 国家知识产权局学术委员会组织编
出版日期: 2024-07-01
商品条码: 9787513094238
版次: 1
开本: 16开
页数: 260
出版年份: 2024

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内容简介

本书聚焦光刻工艺中的高端光刻胶、高端掩模版和浸没式曝光三大关键技术分支,从专利的视角开展了多维度的演化对比分析,包括日本"产、学、官"合作开发案例研究,明晰了国内外企业的优势和不足,并从技术、产业及政策角度提出可行性建议.本书还探索了机器学习实现核心专利筛选的研究工作,构建重点专利-企业分级匹配网,有利于促进专利转化运用.

第1章研究概况
1.1研究背景
1.1.1芯片制造技术发展现状
1.1.2研究意义
1.2研究内容
1.2.1研究的目的
1.2.2研究的重点
1.2.3研究的方法
1.3相关解释和约定
1.3.1专利数据解释
1.3.2相关术语约定
1.3.3相关申请人约定
第2章高端芯片晶圆制造技术专利总体分析
2.1专利申请总体情况分析
2.1.1专利申请总体态势分析
2.1.2全球申请人技术流向分析
2.2光刻工艺专利申请分析
2.2.1申请态势分析
2.2.2国家或地区分析
2.2.3主要申请人分析
2.2.4技术分布分析
2.2.5主要申请人技术分析

2.3小结

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