现代PVD表面工程技术及应用

本书系统全面地阐述了PVD（物理气相沉积）涂层的发展历史、技术原理、工艺流程及工程应用。全书共7章，内容包括：PVD涂层的研究进展、PVD技术原理、PVD涂层技术工艺、PVD涂层的结构与性能、PVD涂层的化学成分控制、PVD涂层的质量控制，以及PVD涂层在现代工业上的应用。本书叙述深入浅出，内容丰富而精炼，工程实践性强，在强化理论的同时，重点突出了工程应用。
本书作为国内为数不多的介绍现代PVD技术原理与工程应用方面的著作，可用作高等工科院校机械工程类、工程材料类、表面工程类及相关制造类专业的本科生和研究生教材，也是工程技术人员和相关学科的科研工作者及大中专学生、研究生的重要参考资料，特别是对于从事实际生产工作的工程技术人员具有重要的指导作用。

序
前言
第1章 PVD涂层的研究进展
1.1 PVD涂层技术概述
1.1.1 真空涂层技术的发展
1.1.2 PVD涂层的基本概念及其特点
1.1.3 现代涂层设备
1.2 PVD涂层技术的研究概述
1.2.1 硬质合金涂层的特点
1.2.2 硬质合金的涂层方法
1.2.3 高温化学气相沉积涂层
1.2.4 物理气相沉积涂层
1.2.5 等离子化学气相沉积涂层
1.2.6 中温化学气相沉积涂层
1.2.7 离子辅助物理气相沉积涂层
1.2.8 涂层硬质合金的种类

第2章 PVD技术原理
2.1 PVD涉及的真空基础与概论
2.1.1 真空概念
2.1.2 真空区域的划分
2.1.3 与PVD相关的低温等离子体概述
2.1.4 真空获得与抽气概念
2.1.5 PVD与水电镀的比较
2.2 蒸镀技术
2.2.1 真空蒸发的原理
2.2.2 真空蒸发的优缺点
2.2.3 真空蒸发镀膜过程
2.2.4 饱和蒸汽压相关理论
2.2.5 蒸发所需热量和蒸发离子的能量
2.2.6 蒸镀的分类
2.3 磁控溅射技术
2.3.1 溅射镀膜原理
2.3.2 直流溅射
2.3.3 直流磁控溅射
2.3.4 射频溅射
2.3.5 脉冲溅射
2.4 阴极电弧技术
2.4.1 真空阴极弧的发展历程
2.4.2 脉冲偏压阴极弧镀膜
2.4.3 阴极电弧制备薄膜的应用
2.4.4 阴极电弧等离子体沉积技术的优点及特性
2.4.5 阴极电弧等离子体沉积技术
2.5 不同涂层技术之间的比较

第3章 PVD涂层技术工艺
3.1 PVD涂层的前处理工艺
3.1.1 清洗
3.1.2 去毛刺
3.1.3 喷砂
3.1.4 抛光
3.2 PVD涂层的制造工艺
3.3 PVD涂层的后处理工艺
3.4 PVD涂层的退涂层工艺

第4章 PVD涂层的结构与性能
4.1 气相沉积技术概述
4.1.1 气相沉积技术及其分类
4.1.2 PVD和CVD的技术特性比较
4.1.3 PVD涂层的发展趋势
4.2 PVD涂层的组织结构
4.2.1 涂层的组织形貌
4.2.2 涂层的晶体结构
4.3 PVD涂层的物理性能
4.3.1 涂层的硬度
4.3.2 涂层的结合力
4.3.3 涂层的内应力
4.3.4 涂层的抗弯强度
4.3.5 涂层的断裂韧性
4.3.6 涂层的摩擦磨损性能
……

第5章 PVD涂层的化学成分控制
第6章 PVD涂层的质量控制
第7章 PVD涂层在现代工业上的应用
参考文献