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中国电子信息工程科技发展研究 集成电路芯片制造工艺专题

中国电子信息工程科技发展研究 集成电路芯片制造工艺专题

  • 字数: 66000
  • 装帧: 平装
  • 出版社: 科学出版社
  • 出版日期: 2019-10-01
  • 商品条码: 9787030623591
  • 版次: 1
  • 开本: 32开
  • 页数: 88
  • 出版年份: 2019
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精选
内容简介
在集成电路产业中,芯片制造技术是产业链中的核心环节之一。本书尝试从芯片大生产制造的角度,介绍芯片制造关键单项工艺和工艺集成技术(与《中国电子信息工程科技发展研究:集成电路产业专题》衔接)。试图以产业发展主流工艺为导向,侧重原理和产业应用实际相结合,尽量避免冗长深奥的物理、化学公式和原理推导。定性地对芯片生产制造工艺中的关键单项工艺进行描述,并在介绍单项工艺后,解释具有复杂系统工程特点的工艺集成技术难点。重点介绍芯片制造工艺中存在的五个主要挑战和可能的解决途径。最后讨论芯片制造工艺产业链生态链的依赖关系。本书对国家不同层面和不同领域的各界专家学者、工程科技管理人才、科研工作者、在校相关专业学生具有较高的参考价值。
目录
《中国电子信息工程科技发展研究》编写说明
前言
第1章 概述 1
第2章 集成电路芯片制造工艺流程 3
第3章 关键单项工艺介绍 7
3.1 光刻工艺 7
3.2 刻蚀工艺 10
3.3 薄膜制备工艺 14
3.4 外延工艺 19
3.5 扩散和离子注入工艺 20
3.6 氧化工艺 23
第4章 工艺集成技术 26
第5章 优选芯片制造工艺技术的主要挑战 38
第6章 总结与致谢 70
参考文献 71

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