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聚焦离子束:应用与实践

聚焦离子束:应用与实践

  • 字数: 243000
  • 装帧: 平装
  • 出版社: 南京大学出版社
  • 作者: 邓昱 等
  • 出版日期: 2023-12-01
  • 商品条码: 9787305274091
  • 版次: 1
  • 开本: 16开
  • 页数: 204
  • 出版年份: 2023
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精选
内容简介
聚焦离子束(FocusedIonBeam,FIB)是微纳加工、芯片失效分析、微结构科学研究的核心技术装备之一。随着材料、器件的微尺度化(纳米甚至原子尺度)、高集成化(每平方厘米集成10亿个以上的功能单元)、多功能化(在多种外场条件下工作),越来越多的材料微结构研究、器件研发须使用聚焦离子束。全书共分七章,从聚焦离子束的结构原理出发,紧密结合应用与实践,对聚焦离子束诱导沉积、溅射刻蚀、离子注入、离子束曝光、联合使用模式以及样品的前期处理进行阐述,并配有实际案例进行进一步详解。
目录
第一章 聚焦离子束原理
1.1聚焦离子束的基本结构
1.1.1聚焦离子束的系统的分类
1.1.2离子枪的结构
1.1.3双束设备样品室布局与工作台
1.2离子束与材料的作用及离子束加工基本功能原理
1.2.1离子束与材料的作用
1.2.2聚焦离子束的主要功能
第二章 聚焦离子束诱导沉积
2.1FIB中的电子束与离子束诱导沉积
2.1.1电子束诱导沉积原理和技术特点
2.1.2离子束诱导沉积原理和技术特点
2.1.3离子束与电子束沉积的参数选择
2.2沉积层的电学特性
2.2.1离子束诱导沉积层的电学特性
2.2.2电子束诱导沉积保护层的电学特性
……

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