光电材料表征技术

本书主要介绍光电材 料涉及的表征技术，并以 大量实例辅助说明。全书 分为元素成分分析、元素 价态分析、晶体结构分析 、表面形貌分析、薄膜厚 度测量、光学性能测量、 电学性能测量等部分。 本书从材料研究人员 角度出发介绍材料表征技 术，重在介绍各种技术在 材料领域的应用，以用为 主，具有较强的科学性和 实用性。

第1章 元素成分分析 1.1 X射线荧光光谱 1.1.1 X射线源 1.1.2 轫致辐射 1.1.3 X射线荧光光谱仪的基本原理 1.1.4 元素浓度 1.1.5 线扫描和面分布 1.1.6 影响定量分析的因素 1.1.7 掠入射／全反射X射线荧光 1.1.8 单色光源X射线荧光 1.1.9 真空环境X射线荧光 1.1.10 其他 1.2 X射线吸收谱 1.2.1 X射线吸收边 1.2.2 X射线吸收谱的测量方法 1.2.3 应用实例 1.2.4 其他 1.3 光电子能谱 1.3.1 光电子 1.3.2 光电子能谱仪的基本构造 1.3.3 光电子峰的标记 1.3.4 光电子能谱中的背景信号 1.3.5 光电子能谱的表面灵敏度 1.3.6 超高真空系统 1.3.7 表面清洁／溅射离子枪 1.3.8 中和电子枪 1.3.9 定量分析 1.3.10 电子能量分析器工作模式 1.3.11 微区分析、线扫描和面分布 1.3.12 样品荷电 1.4 俄歇电子能谱 1.4.1 俄歇电子 1.4.2 俄歇电子峰的标记 1.4.3 强度谱和微分谱 1.4.4 俄歇电子能谱的激发源 1.4.5 筒镜式电子能量分析器一电子枪集成 1.4.6 球栅形阻止势电子能量分析器 1.4.7 表面灵敏度 1.4.8 谱图处理 1.4.9 表面荷电问题 1.4.10 俄歇电子峰的背景信号问题 1.4.11 微区分析、线扫描和面分布 1.4.12 电子束造成的表面损伤 1.4.13 电子能量分析器工作模式 1.5 二次离子质谱 1.5.1 离子溅射 1.5.2 二次离子质谱仪的基本结构 1.5.3 离子的质荷比 1.5.4 离子溅射产额 1.5.5 质量分析器